第一四七章 寻找外援 (2/2)
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刘本伟不屑一顾。
“王总，我跟你说这句话是实事求是的，浸没式光刻技术在七八年前就有立项，其中的困难跟你说，你也不清楚。
我只想说明一点，有那个精力研究浸没式光刻机，把精力投到紫光激光光源上，效果会好的多。”
看来在这个时代，大家的普遍意识就是，搞浸没式光刻机是条绝路。
王岸然深吸一口气，犟鸭子嘴硬的科研人员太多了，自己当初也是他们的一员，跟刘本清生气，就是跟自己生气。
这些人要是犯气牛脾气来，能把天捅破，唯一的解决之道，就是以德服人，哦，不，是以理服人。
“超高纯度折射率液体，往往水里有一粒微尘，或者一个气泡，或者多了一些离子，都可能对加工造成巨大的影响。
再加上高纯水浮在晶片上，目前的光刻胶中的分子会溶进水中，造成液体介质污染，刘教授，我说的没错吧！”
刘本清在王岸然说第一句话的时候就愣住了，什么情况，他懂。
待到王岸然将两大技术难点合盘而出，刘本清说道：“王总，你……？”
王岸然装着没看见，背过身，继续说道：“除了两大问题，在实际操作中，也会面临平台的稳定性，校准系统，曝光时间等问题，需要按每台机器的类型多次调试……”
刘本清想给王岸然竖个大拇指，说一声牛，这些资料可不怎么容易找到。
“王总，既然你知道浸没式光刻机的缺陷，还需要继续坚持吗？”
王岸然点点头，说道：“为什么不！刘教授，高纯水介质我们可以自己研发也可以跟外国合作，厌水光刻胶我们也可以这么办，当然，也可以考虑在光刻胶上再喷一道绝水薄膜，没有试过，怎么知道不行！”
“我们试过很多种办法！”
“那就再试，试到解决为止……”
王岸然毫不客气，作为投资人，他是来发布命令的，而不是跟你讨价还价。
浸没式光刻机肯定是未来的方向，而且波长越长，通过折射后，缩微的效果越明显。
况且，光刻机的波长并能完全决定芯片的制程，通过特定的曝光方式也可以提高制程。
事实证明，193纳米的紫光光源，也可以进行65纳米芯片工艺的生产。
以前世对半导体芯片制造的理解，浸没式光刻，多重曝光方式能够取得进步的话，完全可以将这台东芝的二手货，改造成一台可以生产800纳米工艺的芯片加工厂，甚至更为先进的320纳米工艺也不是不可能。
只不过芯片生产的效率，肯定会差很多，但至少说明一点，我们掌握了这项技术。
而且通过这一过程，华芯科技还可以积累这部分的专利，在asml前面设置一套专利壁垒。
至于这套专利有什么用，王岸然无法评估，按照他的估计，到那个时候，美利坚政府应该也会插手吧！
还有五年的时间，王岸然在纸上写下磁悬浮双工作台，浸没式光刻系统，两大未来发展方向。
这次他不打算，光靠国内研究机构的力量。
“该到寻找外援的时候了！”