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第107章 企业分类（第1页）

“咳咳”

沈丹青重重地咳嗽了两声，提醒下大家，以示自己在注意他们。

最后还是洪涛避无可避，才不得不站起来说：“老板，我在美国接触过，虽然己是过时的技术了，但万变不离其宗。

原理我想来，不会变。”

起了开头，他才正式的讲解道：

“光刻机又叫掩模对准曝光机，是利用照相机的原理，将电子工程师设计的电路图分多步骤转移到硅晶圆的方法。

这里面最难的是激光技术和机械控制精度。

但这两点其实我们早已经解决了，不得不说，老板真是高赡远嘱啊！

我先说，激光的重要性。

一般光刻机上所用的激光都是紫外光，据我到公司以来，才了解。

紫外光也分等级，普通的紫外光也叫UV，它的光波振幅是365Nm，第二种叫深紫外光，也叫DUV，又叫准分子极光，它的光波振幅减少到248Nm到193Nm，是我们早在九二年就请清华大学光电研究所，研究出来的技术。

还有一种是我们为了提高纳米级数控机床的控制精度而研究出来的，我们叫极深紫外光又叫EUV，它的光波振幅只有10到15Nm。

光波振幅越小，意味着光刻精度越高。

光波振幅小，能量密度就大，激光只要照射一次，就能在光刻胶上留下清晰的图形。

因此，我敢说在激光技术方面，我们已经达到了世界领先。

第二个重点，机械控制技术，就不用我说了，我们已是世界领先，机械精度达到了纳米级水平。

而且我们的机械控制技术与国外完全不同，在老板的指点下，我们采用的是非接触式电磁控制直线电机，完全实现了电信号控制，最高精度可以达到1纳米，这还是因为我们只采集了这个等级的数据。

而据我所知，国外还在采取纯机械控制技术，他们还在热衷于滚珠丝杠和空气轴承等技术。

控制精度至少与我们相差两个量级。

因此，我们研制光刻机已经没有技术难度。

相反研制离子注入机，却有不少困难。

离子注入机就利用离子溅射的原理，来对已刻划好的晶体管进行掺杂，以达到我们需要的电学性能。

这里面有两个技术难点，第一是高温。

高温会令微小的晶体管变形，因此我们需要想办法让温度降下来。

第二，就是离子的轰击力度，力度过大，容易对晶体管造成损伤，力度过少，又达不到我们需要掺杂的目的。”

说到这里，他就偷看了一下老板，看他是否满意自己的讲解，发现一切没问题，他才做总结发言：

“我就讲这么多，有不足的地方请大家补充。

谢谢！”

洪涛说完就坐下了，他是赶鸭子上架，没有办法，谁让他是留美博士，接触过这方面的知识。

如果他一直缩着不出头，到时老板也会点他的名，那还不如自己主动，给老板的心里留下好印象。

接下来当然没有谁再发言了，这又不是什么美差。

沈丹青等了几分钟，见没有人再站起来发言，就开始讲话：“刚才，洪所长的发言，非常有见地，基本上将重要的注意事项都点明了，我就不再多说了。

我知道的还没有你们在座的任何人多，但我有几点要求。

第一就是良品率，这是硬指标。

第二就是效率，要有大规模生产的能力。

我预计我国今后会用到大量的芯片，我们必须能迅速满足这个要求。

从低端的16位元到中端的32位元，再到将来的高端64位元芯片，我们都要能大量提供。