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第108章 创新（第3页）

唉！”

“好啦！

既然老板已经批评了，我们就不批评你了。”

郭东又小小的开了一记玩笑，然后正式说道：“非接触式光刻的技术要点就是激光头、掩模板还有基片要无限接近，最好只相差几个纳米，这样才能保证最大的精度。

这是属于一种1:1投影技术或者说光刻技术，对掩模板的制作要求非常高，卢总，能不能将设计图进行电子图缩小？而不是光学缩小？”

“理论上是可以的，我们尽量想办法，也就是说我们根本不搞纸质图纸了，直接用电子图纸投影曝光？”

涉及到他的专业，卢汝成想也没想就回答了。

这时洪涛也获得了灵感，因此接过了话头说道：“我打算采用液晶投影技术，液晶是一种分子级别的化合物，只要我们技术足够，那么控制精度可以无限小，我相信它能够很好的解决1:1电子图形缩小问题。

我们就不走国外那套老路了，那样太复杂，而且精度不够。”

“也只有你才知道国外是怎么搞的，我们从来都是自己搞自己的，不也很好吗？只要我们达到了目的就够了。”

这时王波也插话说道，他对国外是怎么搞的是真不懂，他的话没有半句水份。

“洪所长这个主意很好，这样电子图形缩小就没问题了。”

卢汝成对洪涛的办法不由拍案叫绝。

“这样我们是不是可以取消掩模板呢？”

郭东提出了一个大胆的设想。

“当然不行，液不能代替掩模板，因为液晶屏是通过光的偏振原理，来实现图像显示的。

它根本就不可能实现，高精度光刻，不过我们可以试一试，让液晶屏代替光刻机，给掩模板显影电子图形，如果能够做到，也是一种了不得的进步，能节省很多步骤。

不过我们必须研究出一种，对光非常敏感的光刻胶。

在化学蚀刻的时候，又能有效的保护未被光照的镀铬层。”

“王所长，这点你们能解决吧！”

洪涛先给郭东解释了液晶原理，然后又问王波道。

“没问题。

自从研究光刻胶以来，我们已经研究出多种光刻胶了。

都是分别针对不同的物质，给掩模板用的光刻胶，我们已经研究出来了。

效果怎么样？要试试才知道。”

王波给予了肯定的回答。

“那太好了，那我们就试试吧！”

郭东激动的说道

由于这次用途的特殊原因，他们不需要复杂的液晶技术，只需要第一代液晶技术，即TNLCD。

就是简单的黑白屏，白光就是电路图，如果掩模板与液晶屏隔得足够近的说，也可以留下满意的电路图形。

还有一点与普通的液晶屏不同，这里的背景光源是强光源，他不是给人看的，而是专为掩模板曝光的。

当然缺点也很明显，由于液晶分子的大小原因，精度不够，因此不适合纳米级芯片技术，这是他们后来经过实验，才明白这个道理的。

……